생산시설

생산장비

Semiconductor Manufacturing Equipment
분류 Wafer Scanner Plasma Etcher Ion Implanter CMP Polisher CMP Equipment
제품 용도 검사 Etching 이온 삽입 물리 증착 연마
제조 기술 최신 기술 고성능 제조 필수적인 장비 높은 정밀도, 효율성 고성능 제조
주요 기능 웨이퍼 표면 검사 필수적인 석출 전기적 특성 개선 두께, 물성 등을 측정 표면 매끄러움 처리
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Ion Implanter
  • Ion Implanter는 반도체 제조에서 중요한 역할을 수행합니다.
  • 이 장비는 웨이퍼에 이온을 삽입하여 웨이퍼의 특정 영역에 원자를 주입하여 반도체 소자의 특성을 변경하는 과정을 수행합니다.
  • Ion Implanter는 정확한 제어력과 고도의 정밀성을 가지고 있어 최적화된 반도체 제조 과정을 보장합니다.
Plasma Etcher
  • Plasma Etcher는 반도체 제조 과정 중에 필요한 패턴을 생성하는 데 사용됩니다.
  • 이 장비는 특정 영역의 반도체 표면을 이온화된 기체를 이용하여 부식시키는 과정을 수행합니다.
  • Plasma Etcher는 반도체 제조에서 핵심 장비 중 하나로, 고도의 정밀성과 안정성을 보장합니다.
CMP Polisher
  • Plasma Etcher는 반도체 제조 과정 중에 필요한 패턴을 생성하는 데 사용됩니다.
  • 이 장비는 특정 영역의 반도체 표면을 이온화된 기체를 이용하여 부식시키는 과정을 수행합니다.
  • Plasma Etcher는 반도체 제조에서 핵심 장비 중 하나로, 고도의 정밀성과 안정성을 보장합니다.